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目录
第1章绪论
1.1封装概述
1.1.1封装的定义
1.1.2封装的基本功能
1.1.3广义封装与封装分级
1.2封装技术的发展趋势
1.2.1封装技术的重大革新与产品类型的演变
1.2.2封装工艺发展的总体方向
1.2.3封装形式的发展方向
1.3本书内容导读
习题
参考文献
第2章晶圆减薄与切割
2.1晶圆减薄
2.1.1减薄的作用
2.1.2主要减薄技术
2.1.3磨削减薄技术
2.2晶圆切割
2.2.1晶圆切割工艺步骤
2.2.2机械切割
2.2.3激光切割
2.3芯片分离技术的发展
2.3.1先切割后减薄技术
2.3.2隐形切割后背面磨削技术
2.3.3等离子切割技术
第3章芯片贴装
3.1导电胶黏结技术
3.1.1导电胶的成分
3.1.2导电胶黏结工艺过程
3.2共晶焊接技术
3.2.1共晶反应与相图
3.2.2共晶焊接的原理与工艺方法
3.2.3共晶焊接的局限
3.3焊料焊接技术
3.4低熔点玻璃黏结技术
3.5新型芯片黏结技术
3.5.1芯片黏结薄膜工艺
3.5.2金属焊膏烧结技术
第4章引线键合
4.1引线键合概述
4.2引线键合的分类
4.2.1热压键合
4.2.2热超声键合
4.2.3超声键合
4.3引线键合工艺流程
4.3.1样品表面清洁处理
4.3.2键合过程
4.3.3键合质量的测试
4.4引线键合技术的特点及发展趋势
第5章载带自动焊
5.1载带自动焊技术的历史
5.2载带自动焊技术的优点
5.3载带分类
5.4载带自动焊封装工艺流程
5.4.1内引脚焊接
5.4.2包封
5.4.3外引线键合
第6章塑封、引脚及封装完成
6.1塑封
6.2塑封后固化
6.3去溢料
6.4引线框架电镀
6.5电镀后退火
6.6切筋成型
6.7激光打码
6.8包装
第7章传统封装的典型形式
7.1晶体管外形封装
7.2单列直插式封装
7.3双列直插式封装
7.3.1陶瓷双列直插式封装
7.3.2塑料双列直插式封装
7.4针栅阵列封装
7.5小外形晶体管封装
7.6小外形封装
7.7四边扁平封装
7.8无引脚封装
7.9载带自动焊封装
7.10封装的分类
第8章倒装焊技术
8.1倒装工艺背景与历史
8.2倒装芯片互连的结构
8.3凸点下金属化
8.3.1UBM的功能与结构
8.3.2UBM的制备方法
8.4基板与基板金属化层
8.5凸点材料与制备
8.5.1凸点的功能
8.5.2凸点的类型
8.5.3焊料凸点及其制备方法
8.5.4金凸点与铜凸点及制备方法
8.5.5铜柱凸点及制备方法
8.5.6其他新型凸点
8.6倒装键合工艺
8.6.1焊料焊接
8.6.2金属直接键合
8.6.3导电胶连接
8.6.4凸点材料、尺寸与倒装工艺发展趋势
8.7底部填充工艺
8.7.1底部填充的作用
8.7.2底部填充工艺与材料
第9章BGA封装
9.1BGA的基本概念
9.2BGA封装出现的背景与历史
9.3BGA封装的分类与结构
9.3.1塑料BGA封装
9.3.2陶瓷BGA封装
9.3.3载带BGA封装
9.3.4金属BGA封装
9.4BGA封装工艺
9.4.1工艺流程
9.4.2BGA封装基板及制备
9.4.3主要封装工艺
9.5BGA的安装互连技术
9.5.1BGA的安装工艺流程
9.5.2BGA焊接的质量检测技术
第10章芯片尺寸封装
10.1概述
10.1.1CSP的定义
10.1.2CSP的特点
10.2CSP的分类
10.2.1按照内部互连方式分类
10.2.2按照外引脚类型分类
10.2.3按照基片种类分类
10.3基本类型CSP的结构与工艺
10.3.1引线框架式 CSP
10.3.2刚性基板式CSP
10.3.3挠性基板式CSP
10.3.4晶圆级CSP
10.3.5基于EMC包封的CSP
10.4堆叠CSP的结构与工艺
10.4.1芯片堆叠CSP
10.4.2引线框架堆叠CSP
10.4.3载带堆叠CSP
10.4.4焊球堆叠CSP
10.4.53D封装
10.5CSP的发展趋势
第11章晶圆级封装
11.1概述
11.2WLCSP技术的分类
11.3WLCSP工艺流程
11.3.1BOP技术
11.3.2RDL技术
11.3.3包封式WLP技术
11.3.4柔性载带WLP技术
11.4扇入型WLP与扇出型WLP
11.5FOWLP工艺流程与技术特点
11.5.1FOWLP的基本工艺流程
11.5.2FOWLP的优点
11.5.3FOWLP面临的挑战
11.6WLP的发展趋势与异构集成
11.6.1WLP的应用发展趋势
11.6.2WLP的技术发展
第12章2.5D/3D封装技术
12.13D封装的基本概念
12.1.13D封装的优势与发展背景
12.1.23D封装的结构类型与特点
12.2封装堆叠
12.2.1基于引线框架堆叠的3D封装技术
12.2.2载带堆叠封装
12.2.3基于焊球互连的封装堆叠
12.2.4柔性载带折叠封装
12.2.5基于边缘连接器的堆叠
12.2.6侧面图形互连堆叠
12.3芯片堆叠
12.3.1基于焊线的堆叠
12.3.2基于倒装+焊线的堆叠
12.3.3基于硅通孔的3D封装
12.3.4薄芯片集成3D封装
12.3.5芯片堆叠后埋入
12.4芯片埋入类型3D封装
12.4.1塑封芯片埋入
12.4.2层压芯片埋入
12.52.5D封装和封装转接板
12.5.12.5D封装结构
12.5.2转接板的主要类型和作用
12.5.3TSV转接板2.5D封装
12.5.4TGV转接板2.5D封装
12.5.5无通孔的转接板2.5D封装
12.5.6无转接板的2.5D封装
12.6TSV工艺
12.6.1TSV技术概述
12.6.2TSV工艺流程
12.6.3TSV技术的关键工艺
12.6.4TSV应用发展情况
12.6.5TSV技术展望
12.73D封装的应用、面临挑战与发展趋势
第13章系统级封装技术
13.1系统级封装的概念
13.2系统级封装发展的背景
13.3SIP与SOC、SOB的比较
13.4SIP的封装形态分类与对应技术方案
13.5系统级封装的技术解析
13.5.1互连技术
13.5.2SIP结构
13.5.3无源元器件与集成技术
13.5.4新型异质元器件与集成技术
13.5.5电磁干扰屏蔽技术
13.5.6封装天线技术
13.6SIP产品的应用
13.7SIP的发展趋势和面临的挑战
13.7.1SIP的发展趋势
13.7.2SIP面临的挑战
第14章印制电路板工艺
14.1印制电路板的基本概念
14.2印制电路板的功能
14.3印制电路板的分类
14.3.1按照层数分类
14.3.2按照基材分类
14.3.3按照硬度分类
14.4PCB的技术发展进程
14.5印制电路板的基本工艺概述
14.5.1加成法、减除法和半加成法
14.5.2主要原物料介绍
14.5.3涉及的主要制作工艺
14.6单面、双面刚性PCB的典型工艺流程
14.6.1半加成法双面PCB制作工艺
14.6.2减除法双面PCB制作工艺
14.6.3单面印制电路板制作工艺
14.6.4加成法双面PCB制作工艺
14.7刚性多层板及其工艺流程
14.8积层多层板
14.8.1积层多层板的历史
14.8.2有芯板和无芯板
14.8.3积层多层板关键技术
14.8.4积层多层板的特点
14.9挠性印制电路
14.9.1挠性印制电路板基本概念
14.9.2挠性印制电路板的主要材料
14.9.3单面挠性电路板的制作
14.9.4双面挠性电路板的制作
14.9.5多层挠性电路板的制作
14.9.6刚挠结合板制作工艺
14.10印制电路板的发展趋势与市场应用
第15章封装基板工艺
15.1封装基板的基本概念
15.2陶瓷基板及制作工艺
15.2.1厚膜陶瓷基板
15.2.2薄膜陶瓷基板
15.2.3共烧多层陶瓷基板
15.2.4高电流陶瓷基板
15.3刚性有机基板
15.4挠性有机基板
15.5基板的发展趋势
15.5.1陶瓷封装基板的发展趋势
15.5.2刚性有机基板的发展趋势
15.5.3挠性有机基板的发展趋势
第16章电子组装技术
16.1电子组装技术的概念与发展历史
16.2通孔插装和表面贴装的特点与比较
16.3波峰焊技术
16.4表面贴装与回流焊技术
16.5典型组装方式与流程选择
16.6选择性焊接技术
16.7封装中的表面贴装
第17章电子产品的绿色制造
17.1电子产品中的有害物质
17.1.1铅
17.1.2其他重金属及其化合物
17.1.3含卤有害有机物
17.1.4助焊剂及清洗剂中的有害物质
17.2电子产品相关环保标准与法规
17.2.1RoHS
17.2.2WEEE
17.2.3REACH
17.2.4其他相关环保法规
17.3电子产品的无铅制造
17.3.1无铅焊料
17.3.2无铅组装焊接技术
17.3.3低污染助焊剂
第18章封装中的材料
18.1有机基板材料
18.1.1刚性有机基板材料
18.1.2挠性有机基板材料
18.2无机基板材料
18.2.1陶瓷基板材料
18.2.2玻璃基板材料
18.3引线框架材料
18.4黏结材料
18.5引线键合材料
18.5.1引线键合材料的参数选材要求
18.5.2金丝键合系统
18.5.3铝(硅铝)丝键合系统
18.5.4铜丝键合系统
18.5.5银丝键合系统
18.6环氧树脂模塑料材料
18.6.1填充剂
18.6.2环氧树脂
18.6.3固化剂
18.6.4固化促进剂
18.6.5硅烷偶联剂
18.6.6阻燃剂
18.6.7着色剂
18.6.8其他添加剂
18.7凸点材料
18.7.1金凸点与铜凸点
18.7.2焊料凸点
18.7.3铜柱凸点
18.8焊球材料
18.8.1铅锡焊料和无铅焊料
18.8.2BGA中使用的焊球
18.8.3焊料中各成分在合金中的作用
18.8.4焊球中的金属间化合物
第19章封装热管理
19.1热管理的必要性
19.2传热学基础
19.2.1热传导
19.2.2热对流
19.2.3热辐射
19.3结温与封装热阻
19.3.1热阻的定义
19.3.2传导热阻
19.3.3接触热阻
19.3.4对流热阻
19.3.5扩散热阻
19.3.6热阻网络
19.4封装热管理技术
19.4.1被动式散热
19.4.2主动式散热
19.5热设计流程
19.6稳态与瞬态热分析
19.7热仿真分析
19.7.1有限元方法
19.7.2有限差分方法
19.7.3计算流体力学
19.7.4流体网络模型
第20章封装可靠性与失效分析
20.1封装可靠性的重要性与可靠性工程
20.2可靠性基础知识
20.2.1可靠性的定义
20.2.2失效的三个阶段
20.2.3产品的寿命
20.3可靠性测试方法与种类
20.3.1环境试验
20.3.2高温工作寿命试验
20.3.3机械试验
20.4加速模型
20.4.1温度加速模型
20.4.2湿度加速模型
20.4.3温度变化加速模型
20.5失效分析的基本概念
20.5.1失效机理分类
20.5.2失效原因分类
20.6失效分析的一般流程
20.6.1失效分析的基本内容
20.6.2失效分析一般操作流程
20.7常见的封装失效
附录A缩略语表
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