


作者:王如志、刘维、刘立英
定价:48元
印次:1-8
ISBN:9787302542971
出版日期:2019.12.01
印刷日期:2025.02.28
图书责编:苗庆波
图书分类:教材
“半导体材料”属于材料科学与工程专业的专业课,涉及材料科学与半导体物理及技术等多学科的交叉领域。半导体材料是应用微电子和光电子技术的基础,是推动现代信息技术蓬勃发展的关键元素。本教材的内容包括半导体材料概述,半导体材料的结构、特性及理论基础,半导体材料的主要制备方法及工艺技术,半导体材料的杂质、缺陷及其导电机制,半导体器件应用及纳米半导体材料等。
王如志,北京工业大学教授、博士生导师, 2003年获北京工业大学材料学博士学位,2005年从复旦大学物理学博士后流动站出站。2008年入选北京市科技新星计划,2012年入选北京市青年拔尖人才计划,2013年入选北京工业大学京华人才计划。曾在香港,意大利及日本等国家地区进行合作访问交流。2007年应邀成为国际学术期刊the Open Condensed Matter Physics Journal编委。在半导体低维纳米材料的设计与预测、新能源材料设计与应用、新型纳米场发射材料制备与器件应用等研究领域上取得了一系列具有良好科学意义与应用价值的科研成果。已在国际学术刊物上发表SCI收录论文80多篇,其中,以第一或通讯作者发表的SCI影响因子超过3.5的国际知名学术期刊的科研论文20篇。第一发明人国家授权发明专利8项。主持了包括3项国家自然科学基金、北京市科技新星计划及北京市自然科学基金等科研项目10余项,作为骨干参与国家重大专项、国家自然科学基金重点基金等科研项目多项。主要研究方向侧重新型光电功能材料的设计与应用,包括:1)半导体新能源材料设计、制备与应用;2)新型纳米场发射冷阴极设计、制备与器件应用。
半导体材料涉及材料科学、凝聚态物理、微纳加工技术与电子信息等多学科的交叉领域,是应用微电子和光电子技术的基础,是推动现代信息技术蓬勃发展的关键元素。2014年,诺贝尔物理学奖授予第三代半导体典型材料 GaN的制备及其LED应用 ,激发了人们对于以 GaN为代表的第三代半导体材料研究的热情以及对半导体材料相关知识学习的强烈愿望。近年来 ,半导体材料在飞速发展的5G技术与中美贸易战中反复提及的 “卡脖子 ”芯片中的重要应用 ,特别是中国在半导体芯片材料及技术上的短板尤其引起了人们的关注与 重视。目前市面上的半导体材料相关教材较为缺乏 ,且知识陈旧 ,主要针对第一代半导体———Si基半导体相关理论知识 ,远不能跟上目前半导体材料技术日新月异的发展速度 ,尤其是纳米半导体材料方面。基于此 ,本书定位于理工科院校的本科生 ,期望为培养新一代半导体材料技术人才做出贡献。尤其是目前经典半导体材料技术已发展到极限 ,本书将重点突出第三代半导体与纳米半导体材料的相关基础理论与工艺技术 ,为下一代半导体材料技术人才的培养储备良好的基础知识 ,让读者了解半导体材料的重要性及其应用基本原理、未来发展的技术难点与关键点 ,从而激发更多人投身于半导体材料事业 ,逐步改善我国半导体材料产业落后的局面。 本书由王如志负责总体规划、章节设计及主要内容构思 ,第1章由刘维撰写 ,第2章由刘立英撰写 ,其余章节与附录由王如志撰写并且对书稿进行了统编。 本书得到了北京工业大学 “京华人才 ”支持计划与北京工业大学本科重点建设教材项目的经费资助。此外 ,我的部分研究生参与了本书的文档编辑 ,格式规范及...
第1章半导体材料概述 1
1.1半导体材料的发展与应用 1
1.2半导体材料的概念与性质 8
1.2.1半导体材料的概念 8
1.2.2半导体材料的性质 16
第2章典型半导体材料 19
2.1硅、锗单质半导体材料 19
2.1.1硅 19
2.1.2锗 24
2.2 Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料 29
2.2.1光学性质 32
2.2.2杂质自补偿特性 33
2.2.3应用概述 33
2.3 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料 34
2.3.1基本性质 37
2.3.2晶体结构、化学键和极性 37
2.3.3部分重要 Ⅲ-Ⅴ族半导体材料的应用 39
2.4非晶半导体材料 40
2.4.1非晶半导体物理特性 40
2.4.2非晶态半导体制备 42
2.4.3非晶态半导体特性分析 42
2.4.4非晶态半导体的应用 43
2.5有机半导体材料 44
2.5.1有机半导体材料的基本性质 44
2.5.2有机半导体材料的分类 45
2.5.3有机半导体材料的应用 51
第3章半导体材料的制备与工艺 53
3.1半导体单晶的制备方法 53
3.1.1单晶提纯 53
3.1.2单晶生长 56
3.1.3晶片的制备 61
3.2半导体薄膜生长方法 63
3.2.1外延生长介绍 63
3.2.2真空蒸发镀膜法 64
3.2.3溅射法镀膜 67
3.2.4离子成膜技术 68
3.2.5化... 查看详情
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