"（1）总结了作者团队多年来在光刻工艺研发与制造上的工作经验，结合自研的、基于物理模型的光刻工艺仿真软件，直观地再现已经量产的各技术节点的光刻工艺性能参数，并且结合实际光刻工艺操作来创建全新的光刻工艺学习思路。
（2）提出了一种符合工业标准的标准化研发方法，通过理论仿真与实际曝光数据相结合，力求更清楚地展示研发过程，是经受住实际量产考验的规律总结。
（3）内容具有理论性、系统性与全面性，由浅入深，循序提升，可以让光刻从业者在短时间内掌握基本原理和实操技能，从而快速投入工作，高效且准确地完成工作。
（4）包含基础理论与工程实践，可供光刻技术领域科研院所的研究人员、大专院校的学生、集成电路工程的工程技术人员等学习和参考。
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